Banská Bystrica/Bratislava 1. septembra (TASR) - Úrad priemyselného vlastníctva (ÚPV) SR, od roku 1995 so sídlom v Banskej Bystrici, otvorí vo štvrtok 2. septembra svoje "malé" pracovisko v Bratislave v budove Ministerstva financií SR.
Hovorkyňa úradu Beata Puobišová TASR informovala, že v ňom bude ponúkať služby podateľňa. V nej môžu subjekty osobne podávať prihlášky všetkých typov priemyselnoprávnej ochrany, čiže patentové prihlášky, prihlášky úžitkových vzorov, dizajnov či ochranných známok. Okrem toho v novozriadenom pracovisku získajú všeobecné informácie z oblasti priemyselného vlastníctva, rešeršné služby, najmä ochranných známok a dizajnov. Jeho súčasťou bude tiež rokovacia miestnosť.
Puobišová dodala, že úrad otvorí v polovici septembra piaty vzdelávací rok pre minimálne 15 špecialistov duševného vlastníctva. Od roku 2000 ukončilo záverečnými skúškami a obhajobami záverečných prác štvormodulové vzdelávanie s rozsahom 342 hodín 62 absolventov, najmä 40 technických inžinierov z praxe.
Od tohto roku umožňuje ÚPV prezentáciu priemyselnoprávne chránených produktov s mimoriadnou technickou a dizajnérskou hodnotou na vynálezcovských výstavách v zahraničí. Výstavy inovácií najmä v Nemecku - IENA a Belgicku - EUREKA, majú dlhoročnú tradíciu a vysokú návštevnosť, ktorá sa premieta do záujmu podnikateľov a obchodníkov o nové riešenia. Po prvýkrát môžu záujemcovia písomné návrhy predložiť úradu do 15. septembra 2004. Najbližšia slovenská výstava vynálezov a technických noviniek UmInEx bude v septembri 2005 v Banskej Bystrici.
Za prvých 6 mesiacov tohto roka prijal ÚPV SR 269 patentových prihlášok, z toho 104 domácich a 165 zahraničných. Do jeho evidencie pribudlo 181 prihlášok úžitkových vzorov, medzi ktorými bolo 143 domácich a 38 zahraničných. Prihlášok dizajnov dostal úrad 126, ochranných známok 4 796 a označení pôvodu výrobkov tri. Medzi zaevidovanými prihláškami ochranných známok bolo 1 486 domácich, 624 zahraničných a 2 686 medzinárodných. Oproti rovnakému obdobiu vlaňajška sa zvýšil počet prihlásených úžitkových vzorov o 20 %.
